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濺射靶材的用途

[ 發布日期:2019-05-27 16:44:32 點擊:708 來源:洛陽高新四豐電子材料有限公司 【打印此文】 【關閉窗口】]

隨著市場高科技產品的不斷研發,靶材也在市面上頻頻出現,濺射靶材就是其中的一種,它具備優良的性能,非常受市場的歡迎,然而還有很多人對濺射靶材并不了解,也不知道濺射靶材是干什么用的,那么今天小編就帶大家來了解下濺射靶材的用途

一、濺射靶材的定義

濺射屬于物理氣相沉積技術的一種,它利用離子源產生的離子,在高真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體即為濺射靶材。

以上就是濺射靶材的定義介紹,濺射靶材是半導體晶圓制造環節核心的高難度材料,濺射靶材占半導體晶圓制造材料市場中3%左右,全球市場規模在6-7億美元,年均增速5-10%。下面我們就來看看它的用途都有哪些吧!

二、濺射靶材的用途

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統把電子發射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。

濺射靶材作為最常用的鍍膜材料主要應用于電子及信息產業,如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等,亦可應用于玻璃鍍膜領域,還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。利用濺射靶材制備的各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、太陽能光伏、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用,具體應用產業如下:

濺射靶材

1、信息存儲產業
隨著IT產業的不斷發展,世界對記錄介質的需求量越來越大。記錄介質用靶材研究與生產成為一大熱點。在信息存儲產業中,使用濺射靶材制備的相關薄膜產品有硬盤、磁頭光盤等。制造這些數據存儲產品,需要使用具有特殊結晶性與特殊成分的高品質靶材常用的有鈷、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀有金屬介質材料等。

2、集成電路產業

集成電路用靶材在全球靶材市場占較大份額.其濺射產品主要包括電極互連線膜阻擋層薄膜、接觸薄膜光盤掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等。其中薄膜電阻器是薄膜混合集成電路中用量最多的元件.而電阻薄膜用靶材中Ni- Cr 合金的用量很大。

3、平面顯示器產業

平面顯示器產業包括:液晶顯示(LCD)、等離子體顯示器(PDP)、場致發光顯示器(E-L)、場發射顯示器(FED)。目前在平面顯示器市場中以液晶顯示(LCD)為主,廣泛應用于筆記本電腦顯示器、臺式電腦監視器到高清晰電視。目前,平面顯示器的薄膜多采用濺射成形。濺射用靶材主要有In2O3SnO2MgOwMoNiCuCr等。

濺射靶材的產業鏈為:金屬提純—靶材制造—濺射鍍膜—終端應用,其中超高純度靶材是濺射靶材的基礎,靶材制造和濺射鍍膜是最關鍵的兩個環節。了解了濺射靶材的用途之后我們在來看看它的分類都有哪些?

       三、濺射靶材分類

濺射靶材有很多分類,根據用途不同可分為半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等,根據應用領域又分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材等。?

關于濺射靶材的用途,小編今天就為大家介紹到這里,濺射靶材的用途還是非常廣泛的,相信大家看了本篇文章之后,就會對它的用途有一定的認識和了解。

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